Automatische CVD Anlagen

SURO 表面金属涂层单元, CVD涂层服务

自动化CVD

CVD-EQUIPMENT (化学气相沉积-设备)

能自动沉积耐磨和减少表面摩擦的涂层..

可以在钢铁、硬质合金、陶瓷工具和易磨损部件表面上沉积的涂层是
TiC(碳化钛）/ TiCN（碳氮化钛） /TiN(氮化钛）和Al2O3(氧化铝).

手动操作的CVD单元

CVD-EQUIPMENT
(化学气相沉积-设备)能沉积耐磨和减少表面摩擦的涂层
可以在钢铁、硬质合金、陶瓷工具和易磨损部件表面上沉积的涂层是
TiC(碳化钛）/ TiCN（碳氮化钛） /TiN(氮化钛）和Al2O3(氧化铝).

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CVD 过程描述
CVD(化学气相沉积)是一个将单层或多层氮化物、碳化物、氧化物薄膜涂至多种基体表面的过程.CVD 涂层应用的温度约1000°C.在一个真空和加热的密封容器
（反应室）中在基体（被涂层工件）上沉积各种涂层。将气体 (H2（氢气）、N2（氮气）和CH4（甲烷）)和前体钛(四氯化钛,TiCl4)及AlCl3(三氯化铝 )控制并输入到反应室中.
最后通过将氧化铝涂层涂至表面一种黑色的超硬并耐腐蚀的涂层。其他涂层是氮化钛(金色),碳化钛(金属色)和碳氮化钛(紫色)。