Verfahrensbeschrieb CVD

CVD (Chemical Vapour Deposition) ist ein Verfahren, bei dem im Vakuum eine dünne Schicht von Nitriden, Carbiden, Boriden und Oxiden in Einzel- und Mehrlagen auf das Beschichtungsgut aufgetragen wird.

Da eine CVD Beschichtung bei Temperaturen um 1'000°C benötigt, können nur wenige Materialien mit dieser Methode beschichtet werden. Jedoch wird dieser Nachteil durch die gute Haftung und hervorragenden Schichteigenschaften mehr als ausgeglichen.

Das Beschichtungsgut (Substrat) wird unter Hitze und im Vakuum und durch Zufuhr von Gasen (H2, N2, CH4) mittels eines verdampften Trägermaterials für das Titan (Titan-Tetrachlorid, TiCl4) beschichtet.

Durch Zersetzen von Aluminium kann auch Alumiumoxid aufgetragen werden, eine sehr korrosionsbeständige und harte Schicht. Während Titan-Nitrid eine dekorative Goldfarbe ergibt, wird Al2O3 schwarzglänzend und Titan-Carbonitrid violett.

 

 

 

Mögliche Schichtarten

Titan-Nitrid, Titan-Carbid, Titan-Carbonitrid, Mittel-Temperatur TiCN, Aluminiumoxid sowie Mischungen und Mehrlagen.

Mögliche Substrate

Werkzeuge aus Hartmetall (Wolfram-Carbid-Kobalt), Keramik (Silizium-Nitrid) und warmfeste Stähle.

Einsatzbereiche, Funktion

Schnittwerkzeuge:
Standzeitverlängerung, Verschleissschutz, Korrosionsschutz, Schutz vor Kaltverschweissung.
Maschinenbau (Schneid-, Stanz-, Press, Umformwerkzeuge, Verschleissteile):
Standzeitverlängerung, Korrosionsschutz.